3. 主な用途
様々な目的に対応可能な測定機種とアタッチメントを用いて、多様なニーズにお応えします。
以下に測定項目と用途を示します。
▪ 広角X線回折 : 粉末・バルク材の評価(定性・定量・結晶構造解析)
▪ 薄膜X線回折 : 薄膜材料・試料表面の定性分析
▪ 面内X線回折 : 極薄膜材料・試料極表面の結晶構造解析(In-Plane回折)
▪ ロッキングカーブ : 結晶配向状態の評価(回折強度の1次元分布)
▪ 極点図形 : 結晶配向状態の評価(回折強度の1次元分布)
▪ 大気非暴露X線回折 : 不活性ガス下での評価(露点:ー100℃)
▪ X線残留応力 : バルク材料・薄膜材料の応力値評価
▪ 高温X線回折 : 試料高温下での評価(室温~1400℃)
▪ 微小部X線回折 : 微小・微量試料の評価(定性・定量・結晶構造解析)(最小50μmφ)
▪ 微小部残留応力 : 微小・微量試料の応力値評価 (最小50μmφ)
▪ 微小部極点図形 : 微小・微量試料の配向状態評価 (最小50μmφ)
▪ X線回折2結晶法 : 単結晶・強配向材料の高分解能測定(半値幅:数10sec)
▪ X線回折4結晶法 : 単結晶・強配向材料の超高分解能測定(半値幅:数sec)
▪ 逆格子マッピング : 回折強度の高分解能2次元マッピング
▪ X線反射率 : 薄膜・薄膜積層体各層の膜厚・密度・ラフネス評価
▪ X線小角散乱 : ナノ粒子・ナノポア材料の粒径分布解析